신화인터텍, 광학시트 제조 관련 특허취득

신화인터텍, 광학시트 제조 관련 특허취득

정영일 기자
입력 2009.05.20 10:46 드롭다운 아이콘 수정 2009.05.20 10:46
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신화인터텍(1,399원 ▼2 -0.14%)은 20일 광학 시트 제조 장치와 광학 시트 제조 방법, 이를 이용해 제조된 광학 시트에 대한 특허권을 취득했다고 공시했다.

다음은 공시 전문.

1. 특허명칭 : 광학 시트 제조 장치, 광학 시트 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 광학 시트

2. 특허 주요내용 : 표면에 다수개의 음각 패턴을 구비한 마스터 롤 및 상기 마스터 롤의 상기 표면과 인접하여 위치하며, 상기 다수개의 음각 패턴 내에 고분자 수지를 다단계로 충진하는 적어도 2개의 니딩 롤을 포함하는 광학 시트 제조 장치

3. 특허권자 : 신화인터텍 주식회사

4. 특허취득일자 : 2009-05-19

5. 특허 활용계획 : 본 발명의 광학 시트 제조 장치를 사용하여 목적하는 광학 필름의 패턴에 따라 몰드 필름을 교체함으로써 패턴의 구현이 용이하고, 또한 다단계로 음각 패턴 내에 고분자 수지를 충진하여 광학 필름의 패턴을 형성함으로써, 완성된 광학 필름의 패턴 내에 기포 함유량을 최소화하여, 특성의 저하없는 광학 시트를 제조하는데 활용하고 있음.

6. 확인일자 : 2009-05-19

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