반도체 신규라인(16라인)에 중장기 총 12조 투자
삼성전자(218,000원 ▲3,500 +1.63%)가 올해 사상 최대인 총 11조원을 반도체사업에 투자키로 확정했다. 삼성전자가 당초 올해 메모리반도체 공장에만 5조5000억원을 투자키로 한 것과 비교하면 2배가 남는 수치다.
삼성전자는 17일 이건희 회장이 참석한 가운데 경기 화성사업장에서 반도체 16라인 기공식을 열었다. 삼성전자가 반도체 신공장을 건설한 것은 2004년 15라인을 건설한 이후 5년 만의 일이다.
삼성전자는 16라인을 총 48만평 규모 화성캠퍼스 가운데 현재 가동 중인 31만평을 제외한 17만평 부지에 건설하며, 내년부터 본격 가동에 들어가 단일 제조라인으로는 세계 최대인 12인치 원판(웨이퍼) 기준 월 20만매 이상을 생산할 예정이다. 삼성전자는 반도체 16라인에 총 12조원을 투자할 예정이다.
삼성전자는 당초 계획한 5조5000억원 이외 신규라인 건설과 기존 15라인 증설 등 메모리반도체사업에 3조5000억원을 추가, 총 9조원을 투자할 예정이다. 비메모리반도체(시스템LSI) 2조원을 포함할 경우에 올해 투자액은 총 11조원으로 사상 최대를 기록할 전망이다.
삼성전자는 이르면 이달부터 15라인 증설에 따른 장비 발주에 들어가 3분기부터 장비를 반입하고 연말쯤 15라인을 가동할 것으로 예상된다. 16라인은 이달 착공에 들어가 연말 완공과 함께 장비 반입에 착수, 내년 1분기 시험가동에 이어 2분기부터 양산체제로 전환될 전망이다.
한편 삼성전자는 이날 열린 이사회에서 올해 반도체 15라인 증설과 16라인 신설에 우선 2조5200억원을 투자한다고 결의했다.