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인베니아(1,437원 ▲4 +0.28%)가 100% 이상 청약률로 유상증자 완판에 성공했다. 자금 조달이 완료된 직후 인도 진출 청사진도 제시했다. 재무 개선은 물론 20조원 규모의 인도 신시장에서 기술력을 앞세워 성과를 거두겠다는 계획이다.
인베니아는 지난 4일부터 5일까지 진행된 구주주 대상 유상증자 청약에서 105.38%의 청약률을 기록했다. 당초 계획했던 68억원을 실권주 발행 없이 마무리 지었다. 모집 예정 주식 수는 800만주였으나 843만348주가 몰렸다.
올해 들어 주가가 상승세를 탄 결과로 해석된다. 청약 다음날인 6일 주주배정 유상증자 납입이 완료됐다. 회사 측은 확보된 자금을 통해 재무 건전성을 높이는 한편 즉각적인 수주 대응 체계를 갖춰 신규 해외 시장 공략에 속도를 낸다는 방침이다.
인베니아가 확보한 자금의 종착지는 'ISM 2.0(India Semiconductor Mission 2.0)'으로 대변되는 인도의 거대 디스플레이 시장이다. 인도 중앙 정부는 지난 1일 2026년 연방 예산 발표와 함께 이 정책을 공식화했다.
기존 ISM 1.0의 기반을 이어받아 반도체 및 디스플레이 공급망 내재화를 목표로 승인된 정부 예산만 약 20조원 규모다. 업계에선 인도 정부가 향후 10~20년간 디스플레이 투자를 지속할 것으로 전망하고 있다. 단발성 프로젝트가 아니라 국가 주도의 장기적인 인프라 구축이 예고되면서 장비 업체들의 대규모 수주 기회가 열렸다는 분석이다.
특히 시장의 판도를 바꿀 트리거는 관세 정책이다. 인도 정부는 최근 수입 패널에 대한 관세를 기존 10%에서 20%로 상향 조정하며 '메이크 인 인디아(Make in India)' 정책에 드라이브를 걸었다. 관세 장벽이 높아짐에 따라 글로벌 패널 제조사들은 비용 절감을 위해 인도 현지 생산 공장(Fab) 설립을 서두를 수밖에 없는 구조다.
인도 시장의 수주 경쟁은 사실상 일본의 글로벌 장비 기업 T사와 인베니아의 2파전 양상이다. 전 세계적으로 10.5세대(10.5G) 대면적 드라이 에처(Dry Etcher)의 양산 실적을 보유한 기업은 해당 두 곳이 유일하기 때문이다.
인베니아는 국내 유일의 10.5G 특화 기술력을 승부수로 띄웠다. 대면적 공정에 최적화된 플라즈마, 공정 가스(Process Gas), 정밀 온도 제어 기술 등을 바탕으로 이미 해외 패널 업체의 양산 라인에서 성능 검증을 마쳤다.
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특히 기술적 난이도가 높은 주요 공정인 액티브(Active), N+, 패시베이션(Passivation) 단계에서도 합격점을 받았다. 회사 측에 따르면 고객사가 요구하는 세부 조건인 식각률(Etch Rate), 균일도(Uniformity), 프로파일(Profile) 등을 모두 충족하며 T사 장비와 동등 이상의 기술력을 입증했다는 설명이다.
인베니아는 이번 기회를 선점하기 위해 현지 밀착형 전략을 가동했다. 인도 현지 공급망을 직접 구축하고 기술 협력을 확대해 진입 장벽을 높인다는 구상이다. 특히 인도 시장의 특수한 니즈를 반영한 최적화 모델을 제안해 고객사 만족도를 극대화할 계획이다.
인베니아 관계자는 "ISM 2.0 정책 발표로 전방위적인 산업 성장이 예고된 만큼 인도 시장 진입의 골든타임을 놓치지 않는 것이 중요하다"며 "드라이 에처는 디스플레이 제조의 정밀성과 생산성을 결정짓는 필수 장비로 검증된 기술력을 바탕으로 수주에 총력을 다하고 있다"고 밝혔다.