내달 반도체 IP 협의체 대상 설명회 개최
지식재산처는 반도체 분야 특허 판단 기준을 제시한 '반도체 분야 특허 심사실무가이드'를 제정, 배포한다고 9일 밝혔다.
반도체 산업은 EUV(극자외선) 노광공정, 비정질 탄소 하드마스크, HBM, 차세대 AI 반도체(NPU, PIM) 등 미세·집적·고속화가 급격히 진행되고 있어 반도체 산업 특성을 반영한 특허심사가 필요하다는 산업계의 목소리가 높다.
지식재산처는 이 같은 현장의 의견을 반영해 실제 심사사례 중 다빈도 사례를 발굴·엄선하고 특허성 판단 조문·유형별로 구분해 심사실무 가이드를 제정했다.
△발명의 설명 기재요건: 발명의 실시 가능 요건 등에 관한 판단 방법 △청구범위 기재요건: 청구항의 불명확한 기재 등에 관한 판단 방법 △진보성 등 특허요건: 선행기술들의 결합 용이성, 단순 설계변경 등에 관한 판단 방법 등 3가지 핵심사항에 대한 구체적인 특허성 판단 기준을 담고 있다.
반도체 분야에서 자주 발생하는 '제조방법 한정에 따른 물건(PBP) 청구항'의 특허성 판단 방법도 담았다.
지식재산처는 심사실무 가이드를 지식재산처 누리집을 통해 배포하는 한편, 반도체 분야 산·학·연 등 관계자의 이해도를 높이기 위해 다음 달 반도체 IP 협의체를 대상으로 설명회를 개최할 예정이다.
김희태 반도체심사추진단장은 "이 실무가이드 제정으로 심사 일관성을 높이고, 우리 반도체 기업들이 고품질 특허를 확보할 수 있을 것"이라며 "지식재산 전략 수립을 위한 여력이 없던 팹리스 및 소재·부품·장비 기업 등 중소·중견 기업들이 고품질 명세서를 작성하는 데 실질적인 지침서 역할을 할 것으로 기대한다"고 말했다.
