삼성전자(186,200원 ▲7,800 +4.37%)가 경기도 평택에 건설하는 최첨단 반도체 공장은 오는 2017년 하반기 본격 가동된다.
6일 삼성전자에 따르면 평택 반도체 공장은 2015년 상반기부터 본격적인 공사를 시작해 2016년 상반기까지 공장 건물 공사를 마무리할 계획이다. 이후 장비발주와 시험가동을 거쳐 2017년 하반기부터 본격적인 양산을 시작한다는 방침이다.
최첨단 반도체 신규라인이 증설될 예정인 삼성전자 평택고덕산업단지는 총 85만5000평(283만㎡) 규모다. 이는 축구장 333개 크기를 합쳐놓은 것보다 큰 규모다.
삼성전자는 이 가운데 23만8000평(79만㎡)을 활용해 반도체 1개 라인을 우선 짓기로 했다. 내년 상반기 착공해 2017년 하반기 완공 후 가동할 예정이다.
2017년까지 투입되는 1단계 투자규모만 총 15조6000억원에 달한다. 이는 역대 초기투자 비용 중 최대 규모다. 이는 중국 내 해외법인 투자금액 중 최대규모인 시안 반도체공장 투자액 70억불(약 7조4200억원)의 2배 이상이다.
삼성전자 관계자는 “이번 평택 산단 반도체공장 투자비용은 기흥, 화성, 미국 오스틴, 중국 시안 등 역대 삼성전자 반도체 공장 초기 투자비용 중 가장 높은 수준”이라고 강조했다. 그동안 반도체 라인 1단계 투자비용이 10조원을 넘는 사례는 없었다.