'기흥-화성-평택' 최첨단 클러스터 구축
삼성전자의 평택 반도체 공장이 완공되면 삼성전자 반도체 생산기지 규모(면적)가 기존 173만평(572만㎡)에서 258만5000평(855만㎡)으로 49.4% 늘어난다.
6일 삼성전자에 따르면 현재 삼성전자 반도체 부문의 국내 사업장은 기흥사업장(시스템 LSI/LED 생산라인) 약 43만평(142만㎡)과 화성사업장(메모리 생산라인) 약 48만평(159만㎡), 그리고 온양사업장(조립/검사 라인) 약 13만평(43㎡) 등 총 104만평(344㎡) 규모다.
이번에 건설하는 평택고덕산업단지는 총 85만5000평(283만㎡) 규모로, 기존 국내 사업장 규모의 82% 수준이다. 단지 완공 시 삼성전자의 국내 사업장 규모는 총 189만5000평(624만㎡)으로 늘어나게 된다. 우선적으로 23만8000평(79만㎡)에 들어서는 첨단 반도체 라인 1기 및 인프라 시설만을 감안해도 삼성전자 국내 사업장의 규모는 127만8000평(422㎡)으로 커진다.
해외 사업장의 경우 삼성전자는 미국 오스틴에 22만평(73만㎡) 규모의 반도체 공장(시스템 LSI 생산라인)과 중국 시안 소재 약 42만평(139만㎡) 규모의 메모리 생산라인을 가동 중이다. 여기에 중국 쑤저우 조립/검사 라인(약 3만평, 9917㎡)과 텐진 LED 생산라인(약 2만평, 6612㎡)을 합치면 해외 사업장 규모는 69만평(228만㎡)에 달한다.
삼성전자는 이번 평택 신규라인 건립으로 '기흥-화성-평택'으로 이어지는 세계 최대규모의 '최첨단 반도체 클러스터'를 구축하게 됐다. 기흥과 화성에서 메모리와 시스템반도체 등 첨단 반도체를 양산 중인 삼성전자는 평택 신규라인 확보를 통해 국내에서 반도체 분야 경쟁력을 더욱 강화한다는 전략이다.
앞서 삼성전자는 중국 시안 메모리 반도체 공장을 가동하는 등 한국과 중국, 미국을 연결하는 '글로벌 반도체 생산 3거점 체제'를 구축한 바 있다.
1974년 한국반도체를 인수하고 1983년 D램 사업에 뛰어들어 1992년 D램 세계 1위에 오른 삼성전자는 생산 경쟁력을 강화할 목적으로 1996년 미국 오스틴에 전공정 생산라인을 건설하면서 반도체 해외 생산시대를 열었다. 미국 오스틴 공장은 현재 시스템반도체 전용라인으로 운영하고 있다.
올해 5월 준공한 삼성전자 시안 반도체 공장은 삼성전자 해외 반도체공장 중 최대 규모로, 10나노급 낸드플래시(V-NAND) 메모리를 생산한다. 세계 낸드플래시 수요의 50%를 차지하는 중국에서 낸드플래시 제품을 직접 생산, 공급하는 역할을 하고 있다. 삼성전자는 올해 말 완공을 목표로 시안 반도체공장 인근에 낸드플래시 후공정 라인도 건설하고 있다.
