삼성전자, 4년만에 반도체 라인 신설 추진

삼성전자, 4년만에 반도체 라인 신설 추진

강경래 기자
2010.01.22 07:46
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2조원 투입 예상, 올해 반도체 투자액 5.5조→7조 증가할 듯

삼성전자(300,000원 ▼22,000 -6.83%)가 경기 화성의 반도체단지내에 새 라인(16라인) 건설을 추진하는 것으로 알려졌다.

삼성전자의 신규 반도체 라인 건설은 지난 2005년 하반기 화성 15라인을 건설한데 이어 2006년 미국 텍사스주 오스틴에 12인치 라인을 신설한 이래 4년만이다.

이에 따라 삼성전자가 당초 발표한 올해 메모리반도체 투자 규모도 5조5000억원 이상에서 비메모리반도체를 포함해 총 7조원 정도로 상향 조정될 전망이다.

반도체업계 한 관계자는 21일 "삼성전자가 D램과 낸드플래시 등 메모리반도체시장에서 지배력이 강화되는 추세에 따라 연내 가동을 목표로 새 공장인 16라인에 대한 투자를 단행할 계획"이라고 밝혔다.

다른 관계자는 이와 관련, "삼성전자가 그동안 화성 11라인과 10라인 공정을 8인치(200㎜)에서 12인치(300㎜)로 업그레이드한 적은 있지만 라인을 신설하기는 4년만이다"고 말했다.

삼성전자는 16라인에 들어갈 장비를 올 상반기 중 발주하고 연말쯤 가동에 들어갈 것으로 예상된다. 16라인 양산 규모는 반도체 배선(메탈)공정에 할애한 공간을 제외하고 12인치 원판 기준 월 5만장 수준이 될 전망이다. 투자액은 중장기적으로 2조원 정도로 예상되고 있다. 업계 일각에서는 16라인 전체를 배선공정에 특화시킬 수 있다는 관측도 내놓고 있다.

삼성전자가 올해 16라인 등 반도체에 공격적인 투자를 단행할 것으로 전망되면서 당초 발표한 메모리반도체 5조5000억원 이상에서 비메모리반도체를 포함해 총 7조원 정도로 상향 조정될 전망이다. 하이닉스 역시 올해 투자액을 당초 밝힌 1조5000억원에서 최근 2조3000억원으로 상향 조정했다.

삼성전자는 지난 2007년부터 2년 이상 반도체 불황이 이어지면서 라인 증설에 보수적인 입장을 취해왔다. 때문에 2007년 반도체에 집행한 6조3000억원 투자도 2008년 5조2000억원에서 지난해 4조원 규모로 줄었다.

하지만 삼성전자가 '치킨게임'으로 불렸던 국내외 D램 제조사들 간 출혈경쟁에서 최종 승리하면서 지난해 하반기부터 수익성이 급격히 회복되기 시작했다. 삼성전자는 지난해 3분기 반도체에서 영업이익 1조1520억원으로 11분기 만에 조 단위 이익을 회복했다. 4분기 영업이익은 2조원에 달할 전망이다.

삼성전자는 수익성을 회복하면서 지난해 하반기 경기 화성 10라인 공정을 8인치에서 12인치로 전환, 커패시터(데이터저장) 공정으로 특화하는 투자도 단행했다. 삼성전자는 10라인 공정전환에 이어 16라인 투자까지 단행, 메모리반도체 시장지배력을 크게 강화한다는 전략이다.

삼성전자가 16라인 투자에 나설 경우아토(23,650원 ▼1,450 -5.78%)아이피에스국제엘렉트릭에버테크노유진테크(157,400원 ▲10,000 +6.78%)피에스케이(138,500원 ▲13,500 +10.8%)AP시스템(4,090원 ▼40 -0.97%)테스(176,200원 ▲14,800 +9.17%)등 수혜가 점쳐진다.

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